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Thèse de Doctorat
DOI
10.11606/T.75.2008.tde-13102008-161203
Document
Auteur
Nom complet
Rogério Haruo Watanabe
Adresse Mail
Unité de l'USP
Domain de Connaissance
Date de Soutenance
Editeur
São Carlos, 2008
Directeur
Jury
Lima Neto, Benedito dos Santos (Président)
Andrade, Jose Fernando de
Carlos, Ivani Aparecida
Polito, Wagner Luiz
Senna, Lilian Ferreira de
Titre en portugais
Aplicação de complexos de metais de transição coordenados a típicos aditivos orgânicos de banhos eletrolíticos em eletrodeposição binária de metais
Mots-clés en portugais
aditivos orgânicos
banhos livres de cianeto
banhos sem cianeto
eletrodeposição
Resumé en portugais
O objetivo principal deste trabalho é aplicar complexos de cobre(II), níquel(II), zinco(II) e nióbio(V) como fontes de metais em banhos de eletrodeposição. Os íons metálicos foram coordenados aos ligantes íon oxalato, íon citrato, etilenodiamina (EDA) ou tetraetilenopentamina (TEPA), os quais são aditivos orgânicos típicos em banhos de eletrodeposição. Os complexos foram caracterizados por análise elementar, espectroscopias nas regiões do infravermelho e ultravioleta-visível e voltametria cíclica. Foram realizadas eletrólises em presença de dois complexos de coordenação em ausência de quantias adicionais de aditivos, usando aço 1010 como substrato a pH = 4.5 (H2SO4/Na2SO4), resultando em depósitos com dois elementos metálicos. Os depósitos apresentaram aspectos morfológicos com boas qualidades e sem falhas. Em adição, os depósitos foram analisados por EDX, reflectância difusa e espectroscopia de raio-X e também foram realizadas medidas de curvas de polarização. Os depósitos obtidos a partir dos complexos gerados ex-situ mostraram morfologias melhores do que depósitos obtidos de soluções preparadas com os sais dos metais na presença dos aditivos, mediante as mesmas condições de trabalho. É sugerido que os metais de partida, coordenados a aditivos influenciam o processo de eletrodeposição, propiciando depósitos com potenciais de corrosão deslocados por até +200 mV em 0.5 mol.L-1 NaCl (1 mV.s-1).
Titre en anglais
Application of transition metal complexes coordinated with typical organic aditive from electrolitic bath for binary metal electrodeposition
Mots-clés en anglais
electrodeposition
non-cyanated bath (metal complexes)
organic aditive
Resumé en anglais
The main goal of this work is to use copper(II), nickel(II), zinc(II) and niobium(V) complexes as metal plating source in electrodeposition baths. The metal ions were coordinated with oxalate, citrate, ethylenediamine (EDA) or tetraethylenepentamine (TEPA) as ligands, which are typical organic additives in electroplating. The complexes were characterized by elemental analysis, infrared and ultraviolet spectroscopies and cyclic voltammetry. The electrolyses in presence of two coordination complexes in the baths were carried out in absence of extra amount of additive, using 1010 steel as substrate at pH = 4.5 (H2SO4/Na2SO4). Deposits with two metal elements from the ex-situ generated complexes showed good quality morphologic aspect without crashes. Further, the deposits were analyzed by EDX, diffuse reflectance and X-ray spectroscopy and polarization curves were recorded. The deposits showed better morphologies than deposits obtained from the metal salt solutions in presence of additives under similar conditions. It is suggestive that the starting metal plating coordinated with additives influences the electrodeposition processes, affording deposits with corrosion potentials shifted over +200 mV in 0.5 mol.L-1 NaCl (1 mV.s-1).
 
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tese_parte1.pdf (59.15 Kbytes)
tese_parte2.pdf (16.67 Mbytes)
Date de Publication
2008-12-09
 
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