O sucesso da reabilitação com implantes está baseado principalmente na adequada distribuição das tensões mecânicas ao osso circundante, a qual pode ser influenciada pelo tipo de conexão, dimensões do pilar protético, dimensões do implante, geometria e profundidade de inserção. O objetivo deste estudo foi avaliar a magnitude e distribuição de tensões ao osso peri-implantar através da utilização de implantes de conexão cônica posicionados em diferentes níveis da crista óssea e conectados a pilares protéticos sólidos de diferentes diâmetros, por meio do método tridimensional de elementos finitos. Para isso, foram confeccionados quatro modelos tridimensionais: A-1.5 (Implante equicristal conectado a um pilar de 3,3 mm de diâmetro); A-3.0 (Implante subcristal conectado a um pilar de 3,3 mm de diâmetro); B-1.5 (Implante equicristal conectado a um pilar de 4,5 mm de diâmetro) e B-3.0 (Implante subcristal conectado a um pilar de 4,5 mm de diâmetro). Todos os modelos foram submetidos a uma carga axial (0°) e oblíqua (30°) de 365 N distribuída em 8 pontos oclusais. Foram analisadas as tensões equivalentes de von Mises (TEvM) para implante e componentes protéticos e as tensões máximas (TMaP) e mínimas principais (TMiP) para o osso peri-implantar. Os resultados mostram que as áreas de maior TEvM ocorreram na interface implante/pilar para todos os modelos, sobretudo sob carga oblíqua. Para o osso peri-implantar os maiores níveis de tensão de tração (TMaP) foram observados no posicionamento subcristal do implante em região de interface entre osso cortical e trabecular, no entanto os maiores níveis de tensão de compressão (TMiP) foram observados para o posicionamento equicristal do implante, em região de crista óssea. Independente da profundidade óssea do implante, foi observado uma diminuição dos valores máximos e da área de concentração de tensões quando foi utilizado um pilar com um maior diâmetro em base de assentamento protético, tanto na interface implante/pilar como para interface implante/osso. Dentro das limitações deste estudo foi possível concluir que a colocação subcristal do implante gerou menores níveis de tensão na crista óssea quando comparado com o posicionamento equicristal do implante e que a utilização de um pilar de maior diâmetro em base de assentamento protético causa uma diminuição de tensões em osso peri-implantar independentemente do tipo de carga e posicionamento do implante.

The success of implant rehabilitation is mainly based on the adequate distribution of mechanical stresses to the surrounding bone, which can be influenced by the type of connection, prosthetic abutment dimensions, implant dimensions, geometry and insertion depth. The aim of this study was to evaluate the magnitude and distribution of stresses to the peri-implant bone by using conical connection implants installed at different bone depths and connected to solid prosthetic abutments of different diameters using the three-dimensional finite element method. For this, four threedimensional models were built: A-1.5 (Implant placed at crestal connected to a 3,3 mm diameter abutment); A-3.0 (Implant placed at subcrestal connected to a 3,3 mm diameter abutment); B-1.5 (Implant placed at crestal connected to a 4,5 mm diameter abutment) and B-3.0 (Implant placed at subcrestal connected to a 4,5 mm diameter abutment). All models were submitted to an axial (0°) and oblique (30°) load of 365 N distributed in eight occlusal points. The von Mises equivalent stress (TEvM) for implant and prosthetic components were analyzed, and the maximum (TMaP) and minimum principal stresses (TMiP) for periimplant bone. The results show that the highest TEvM areas occurred at the implant-abutment interface for all models, especially under oblique loading. For the periimplant bone the highest tensile stress levels (TMaP) were observed in the subcrestal implant placement at the interface between cortical and trabecular bone, however the highest compression stress levels (TMiP) were observed for the position of the implant in the bone crest region. Regardless of the bone depth of the implant, a reduction in the maximum values and stress concentration area was observed when a larger diameter abutment was used in the prosthetic base, both at the implant / abutment interface and at the implant / bone interface. Within the limitations of this study it was possible to conclude that the subcrestal placement of the implant generated lower stress levels in the bone crest when compared to the crestal placement of the implant and that the use of a larger diameter abutment in prosthetic base causes a decrease in stress in periimplant bone regardless of the type of load and implant placement.