Nos últimos anos, os avanços e desenvolvimentos na área de tecnologia, resultaram em um aumento significativo na demanda por novos materiais cujas propriedades e funções podem ser manipuladas mediante aplicação controlada de luz ou elétrons. Em particular, as interações por feixe de elétrons através da microscopia eletrônica de transmissão com a matéria têm sido extensivamente utilizadas não apenas como plataformas de caracterização de morfologia, estrutura e transformação química, mas também como uma técnica para o processamento e fabricação de novos materiais. No entanto, na área de desenvolvimento e processamento de materiais, ainda há muitos desafios como, por exemplo, tornar a produção escalável e viável com custo-benefício e fácil procedimento de fabricação. Por esse motivo a elaboração e desenvolvimento de um novo equipamento de irradiação por feixe de elétrons passa ser um diferencial para a produção e modificação de materiais. Com isso, as reações poderiam deixar de ser realizadas usando apenas o feixe de elétrons do microscópio eletrônico e ampliar suas aplicações a diversos campos da pesquisa científica como a catálise, fotocatálise, sensores, agentes antimicrobianos, materiais magnéticos, antitumorais, entre outros. Desta forma, caracteriza-se como objetivo central deste projeto o desenvolvimento e a fabricação de um sistema de irradiação por feixe de elétrons com a intenção de obter/modificar, ou induzir novas propriedades mecânicas, físicas e/ou químicas aos materiais semicondutores e não-metálicos. Os resultados obtidos demonstram a relevância e contribuição do equipamento desenvolvido, que passa a agregar um alto valor comercial e tecnológico ao processamento de materiais. Além disso, o equipamento oferece fácil operação e controle dos parâmetros do processo de irradiação, alta precisão, reprodutibilidade e a capacidade de produzir novos materiais e estruturas que não podem ser obtidas pelo métodos convencionais.

In the last years, advances and developments in technology have resulted in a significant increase in demand for new materials whose properties and functions can be manipulated through controlled application of light or electrons. In particular, electron beam interactions through transmission electron microscopy with matter have been extensively used not only as platforms for characterizing morphology, structure and chemical transformation, but also as a technique for processing and fabrication of new materials. However, it is still a challenge in the field of material processing to make production scalable and viable with a cost-effective and easy manufacturing procedure. For this reason, the elaboration and development of a new electron beam irradiation equipment now adds a differential for the production and modification of materials. In this new irradiation platform, the reactions are no longer performed with the aid of electron microscopes and are applied directly in various fields of scientific research, such as catalysis, photocatalysis, sensors, antimicrobial agents, magnetic materials, antitumor, among others. The main objective of this project is the development and manufacture of a new electron beam irradiation system with the intention of obtaining/modifying, or inducing new mechanical, chemical and processability properties of semiconductor and non-metallic materials. As a result of this irradiation platform, we aim to optimize the final material of interest for scientific and technological applications. The results obtained demonstrate the relevance and contribution of this equipment, which adds a high level of commercial and technological value to materials processing. Additionally, the equipment provides easy operation and control of irradiation process parameters, high precision, reproducibility, and the ability to create novel materials and structures that cannot be obtained by conventional methods.