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Dissertação de Mestrado
DOI
https://doi.org/10.11606/D.85.2004.tde-06082007-150613
Documento
Autor
Nome completo
Valdirene de Olivieira Scapin
E-mail
Unidade da USP
Área do Conhecimento
Data de Defesa
Imprenta
São Paulo, 2004
Orientador
Banca examinadora
Lima, Nelson Batista de (Presidente)
Sato, Ivone Mulako
Tabacniks, Manfredo Harri
Título em português
"Aplicação da fluorescência de raios X (WDXRF): Determinação da espessura e composição química de filmes finos"
Palavras-chave em português
Composição Química
Difração de raios X
Espessura
Filmes Finos
Fluorescência de raios X
WDXRF
Resumo em português
Neste trabalho é descrito um procedimento para a determinação quantitativa da espessura e composição química de filmes finos, por fluorescência de raios X por dispersão de comprimento de onda (WDXRFS), utilizando-se o método de Parâmetros Fundamentais (FP). Este método foi validado dentro dos padrões de garantia de qualidade e aplicado as amostras de Al, Cr, TiO2, Ni, ZrO2 (monocamada) e Ni/Cr (duplacamada) sobre vidro; Ni sobre aço inoxidável e zinco metálico e TiO2 sobre ferro metálico (monocamada), as quais foram preparadas por deposição física de vapor (PVD). Os resultados das espessuras foram comparados com os métodos de Absorção (FRX-A) e Retroespalhamento de Rutherford (RBS), demonstrando a eficiência do método de parâmetros fundamentais. As características estruturais das amostras foram analisadas por difração de raios X (DRX) e mostraram que os mesmos não influenciam nas determinações das espessuras.
Título em inglês
APPLICATION OF X RAY FLUORESCENCE (WDXRF): THICKNESS AND CHEMICAL COMPOSITION DETERMINATION OF THIN FILMS
Palavras-chave em inglês
Chemical Composition
Thickness
WDXRF
X ray diffraction
X ray fluorescence
Resumo em inglês
In this work a procedure is described for thickness and quantitative chemical composition of thin films by wavelength dispersion X-ray fluorescence (WDXRF) using Fundamental Parameters method. This method was validated according to quality assurance standard and applied sample Al, Cr, TiO2, Ni, ZrO2 (single thickness) and Ni/Cr (double thickness) on glass; Ni on steel and metallic zinc and TiO2 on metallic iron (single thickness), all the sample were prepared for physical deposition of vapor (PVD). The thickness had been compared with Absorption (FRX-A) and Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS) methods; the result showed good efficiency of the fundamental parameters method. Sample structural characteristics analyzed by X ray diffraction (XRD) showed any influence in the thickness determinations.
 
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ValdireneScapin.pdf (1.23 Mbytes)
Data de Publicação
2007-09-04
 
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