As tensões de baixa intensidade contribuem para a remodelação óssea nos implantes osseointegráveis, enquanto as tensões de alta intensidade causam a reabsorção óssea abaixo da interface implante-pilar. A sobrecarga oclusal afeta a fisiologia do tecido ósseo, rompendo com o equilíbrio entre a neoformação e a reabsorção. Como consequência da desarmonia, lacunas surgem em meio a superfície óssea, criando um ambiente favorável à proliferação de patógenos e ao acúmulo de fibras. Com a continuidade da sobrecarga e com a permanência dos microrganismos o suporte ósseo é comprometido, resultando na falha do implante. Em condições normais de carregamento, os implantes com conexão cônica possibilitam uma distribuição homogênea das tensões. O posicionamento da plataforma protética abaixo da crista óssea determina a transferência das tensões para áreas distantes ao osso cortical. O presente estudo utilizou a análise fotoelástica para avaliar a distribuição de tensão em modelos experimentais com implantes com conexão cônica instalados na posição equicristal, 1,5 mm infraósseo e 3,0 mm infraósseo. Foram propostas reabilitações com coroas protéticas unitárias em cerâmica, cimentadas em pilares protéticos sólidos e de parafuso passante com alturas de transmucoso de 1,5 mm, 3,0 mm e 4,5 mm. Os implantes foram posicionados na posição correspondente ao primeiro molar inferior direito. Segundo as situações adotadas, os conjuntos implante/pilar foram avaliados isoladamente, adjacentes a réplicas do segundo pré-molar inferior direito e do segundo molar inferior direito e apenas adjacentes a réplicas do segundo pré-molar inferior direito. A carga aplicada aos modelos fotoelásticos foi de 200 Ncm para todas as situações. Nos modelos com réplicas dentais foi realizado o carregamento oclusal distribuído, nos modelos com implantes isolados o carregamento foi pontual na fossa central e distal das coroas protéticas. Os resultados obtidos revelaram que a indicação de um pilar protético em detrimento a outro se configurou segundo a presença ou não de elemento dental posterior à coroa protética, assim como também por intermédio da profundidade da plataforma do implante na crista óssea remanescente. Em extremidades livres com implantes infraósseo a distribuição de tensão proporcionada pelo pilar de parafuso passante foi superior a do pilar sólido. Com a presença do segundo molar a distribuição da tensão foi mais eficiente com o pilar sólido, independentemente da profundidade da plataforma do implante. Nos modelos fotoelásticos com extremidade livre, o deslocamento da plataforma para uma posição infraóssea determinou menores tensões ao tecido ósseo. Havendo contatos proximais bilaterais a distribuição da tensão foi favorecida quando o implante ocupou a posição infraóssea a 3,0 mm, estando conectado ao pilar de parafuso passante. Entretanto, quando conectado ao pilar sólido o implante equicristal apresentou melhor distribuição de tensão que os implantes infraósseo.

Low-intensity stresses contribute to bone remodeling, while high intensity stresses cause bone resorption, below implant-abutment junction in dental implants. The occlusal overload affects the physiology of bone tissue, disrupting the balance between new formation and resorption. As a result of the disharmony, gaps arise in the crestal bone, creating a favorable environment for the proliferation of pathogens and fiber accumulation. With the continued overloading and the permanence of microorganisms, the bone support is impaired, resulting in implant failure. In normal loading conditions the tapered connection implants enables a homogeneous distribution of stresses. The subcrestal positioning of the prosthetic platform determines the transfer of stresses to distant areas from the cortical bone. This study used photoelastic analysis to evaluate the stress distribution in experimental models in conical abutment connection implants placed in equicristal position, 1.5 mm and 3.0 mm subcrestal positions. Rehabilitations were proposed for single prosthetic ceramic crowns cemented in standard and regular Ankylos prosthetic abutments with transmucosal height of 1.5 mm, 3.0 mm and 4.5 mm. Implants were placed in the position corresponding to the first lower right molar. According to the chosen situations, sets of implant/abutments were evaluated separately, adjacent to replicas of the second lower right premolar and second lower right molar and just adjacent to replicas of the second right premolar. The load applied to the photoelastic models was 200 Ncm in all cases. In models with dental replicas, distributed occlusal loading was performed; on models with isolated implant, loading was precise in the central and distal fossa of prosthetic crowns. The results showed that the indication of an abutment over another is depended on the presence or absence of a dental element posterior to the prosthetic crown, and of the implant platform depth of the remaining bone crest. In distal extension with subcrestal implants, stress distribution provided by Regular Ankylos prosthetic abutments was better than that provided by the Standard Ankylos abutment. With the presence of the second molar distribution of stress was more efficient with the Standard Ankylos abutment, regardless of the depth of the implant platform. In photoelastic models with distal extension, the platform displacement to a subcrestal position determined lower stress to the bone. Having bilateral proximal contacts, the stress distribution was favored when the implant was placed in a 3.0 mm subcrestal position with Regular Ankylos prosthetic abutments. However, when connected to the Standard Ankylos abutment, implant placed in equicristal position showed better stress distribution than subcrestal implants.