• JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
  • JoomlaWorks Simple Image Rotator
 
  Bookmark and Share
 
 
Dissertação de Mestrado
DOI
10.11606/D.54.1985.tde-13022015-155857
Documento
Autor
Nome completo
Fernando Josepetti Fonseca
Unidade da USP
Área do Conhecimento
Data de Defesa
Imprenta
São Carlos, 1985
Orientador
Banca examinadora
Campos, Milton Soares de (Presidente)
Alvarez, Fernando
Castro Neto, Jarbas Caiado de
Título em português
Desenvolvimento de uma célula solar de silício para aplicações espaciais
Palavras-chave em português
Não disponível
Resumo em português
Este trabalho teve como objetivo o desenvolvimento de um conjunto de processos para a fabricação de células solares de silício para utilização espacial, do tipo convencional. As células solares de silício monocristalino desenvolvidas neste trabalho possuem junção rasa, obtida por difusão de fósforo em substrato tipo-p (com resistividade de 1 ou 10 Ohm.cm), grades de contato de Ti/Pd/Ag e camada antirefletora de dióxido de titânio. Em células de 4cm2 foram obtidas eficiências de conversão de até 13,6% com fator de preenchimento de 0,77 em substratos de 1 Ohm.cm e 13% e 0,76 em substratos de 10 Ohm.cm. Células construídas com substratos de 10 Ohm.cm apresentaram melhor tolerância à danos de radiação que as de 1 Ohm.cm. São analisadas as influências da camada antirefletora, resistividade de substrato, geometria e técnicas de deposição da grade de contatos no desempenho elétrico das células
Título em inglês
Not available
Palavras-chave em inglês
Not available
Resumo em inglês
The objective of this work was the study and the development of techniques for the fabrication of silicon solar cells, of conventional type, for space applications. The single-crystal silicon solar cells were fabricated on p-type substrates of 1 and 10 Ohm.cm resistivities by thermal diffusion of phosphorus from liquid source. The anti-reflective coatings were made from titanium dioxide obtained by reactive sputtering of a titanium target. A triple titanium-palladium-silver layer was utilized to prepare the contacts. Conversion efficiencies of up to 13.6% and fill factors of 0.77 were obtained in cells fabricated on 1 Ohm.cm substrates and efficiencies of 13% and fill factor of 0.76 were obtained in cells fabricated in 10 Ohm.cm substrates. Better radiation damage tolerance was observed in cells with 10 Ohm.cm substrates when compared with 1 Ohm.cm substrate cells. The inf1uences of the anti-reflective coatings, substrate resistivities, and contact grid geometry and grid deposition techniques on cell performance are analyzed
 
AVISO - A consulta a este documento fica condicionada na aceitação das seguintes condições de uso:
Este trabalho é somente para uso privado de atividades de pesquisa e ensino. Não é autorizada sua reprodução para quaisquer fins lucrativos. Esta reserva de direitos abrange a todos os dados do documento bem como seu conteúdo. Na utilização ou citação de partes do documento é obrigatório mencionar nome da pessoa autora do trabalho.
Data de Publicação
2015-02-19
 
AVISO: Saiba o que são os trabalhos decorrentes clicando aqui.
Todos os direitos da tese/dissertação são de seus autores
Centro de Informática de São Carlos
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP. Copyright © 2001-2018. Todos os direitos reservados.